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            智能磁控濺射儀

            首頁    產品展示    智能磁控濺射儀

            一、應用范圍和場景

                  本產品主要用于科研院校教育教學實驗室和半導體電子容器生產廠家,用于貴重金屬涂層鍍膜、隱形材料、熱控凃層、ITO、石墨烯、太陽能電池等等。

             

            二、基本構造

            1.真空室 2.泵浦系統 3.氣體供給系統 4.濺射槍與電源系統 5.基座與傳輸系統 6.智能控制系統

             

            、主要功能

            1.可用于濺制各種單層膜,多層膜,參雜膜;金屬,合金,化合物,半導體,陶瓷膜,介質復合膜及其它化學反應膜。

            2.圓形平面永磁濺射槍,2英寸,用于濺射制作Fe,Co,Ni等磁性薄膜。

             

            四、設備型號

            1.智能磁控濺射儀TDZN-AB02-006

            2.智能磁控濺射儀TDZN-AB03-008 

            3.智能磁控濺射儀TDZN-AB03-009

            4.智能磁控濺射儀TDZN-AB04-007

            5.智能磁控濺射儀TDZN-AB04-008  

            6.智能磁控濺射儀TDZJY-2QS15

            7.智能磁控濺射儀TDZJY-RQK04

             

            五、技術參數

            1.極限真空度4.0×10-5Pa;

            2.試料可加熱,最高溫度500℃,室溫~500℃,可控可調;

            3.試料架旋轉速度0~30轉/分,可控可調;

            4.試料座臺電動升降, A-K距離4-15cm ,自動可控可調;

            5.直徑Φ50mm圓形平面永磁濺射槍3個,可配置用于制作磁性材料的Φ50mm圓形平面磁控濺射槍1個;

            6.制膜不均勻度:≤±3%;

            7.質量流量控制器: 氮氣N?(100sccm), 氬氣 Ar(100sccm);

            8.自動化輸送料系統,與多功能基座自動對接,誤差<1mm;

            9.缺水欠壓檢測與保護,溫度檢測與保護,真空系統檢測與保護。

             

            六、經濟效益和價值

                  相較于其它PVD、CVD鍍膜方法,磁控濺射等離子體鍍膜具有沉積速率快、基材升溫低、膜層損傷小、濺射所獲得薄膜純度高、致密性好的特點,可在大面積基片上獲得厚度均勻、重復性好的薄膜。因此,磁控濺射技術一經問世就獲得了迅速發展和廣泛應用。本產品改進工藝引入智能化技術,將極大提高磁控濺射等離子體鍍膜效率,增加企業經濟效益。

             

            七、檢測報告

            2022年9月30日 13:11
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